金屬離子標液

來源：作者：人氣：-發(fā)表時間：2014-10-17 10:48:00【大中小】

金屬離子標液

一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導(dǎo)電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好, 但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加, 提高濺鍍速率。

中文名	英文名	縮寫	濃度	包裝
ALUMINIUM	鋁	Al	1000ppm	100ML
ALUMINIUM	鋁	Al	100ppm	100ML
ANTIMONY	銻	Sb	1000ppm	100ML
ANTIMONY	銻	Sb	100ppm	100ML
BARIUM	鋇	Ba	1000ppm	100ML
BERYLLIUM	鈹	Be	100ppm	100ML
BISMUTH	鉍	Bi	1000ppm	100ML
BORON	硼	B	1000ppm	100ML
CADMIUM	鎘	Cd	1000ppm	100ML
CADMIUM	鎘	Cd	100ppm	100ML
CALCIUM	鈣	Ca	1000ppm	100ML
CERIUM	鈰	Ce	1000ppm	100ML
CESIUM	銫	Cs	1000ppm	100ML
CHROMIUM	鉻	Cr	1000ppm	100ML
CHROMIUM	鉻	Cr	100ppm	100ML
COBALT	鈷	Co	1000ppm	100ML
COBALT	鈷	Co	100ppm	100ML
COPPER	銅	Cu	1000ppm	100ML
COPPER	銅	Cu	100ppm	100ML
DYSPROSIUM	鏑	Dy	1000ppm	100ML
ERBIUM	鉺	Er	1000ppm	100ML
EUROPIUM	銪	Eu	1000ppm	100ML
GADOLINIUM	釓	Gd	1000ppm	100ML
GALLIUM	鎵	Ga	1000ppm	100ML
GERMANIUM	鍺	Ge	1000ppm	100ML
GOLD	金	Au	1000ppm	100ML
HOLMIUM	鈥	Ho	1000ppm	100ML
INDIUM	銦	In	1000ppm	100ML
IRON	鐵	Fe	1000ppm	100ML
IRON	鐵	Fe	100ppm	100ML
LANTHANUM	鑭	La	1000ppm	100ML
LEAD	鉛	Pb	1000ppm	100ML
LEAD	鉛	Pb	100ppm	100ML
LITHIUM	鋰	Li	1000ppm	100ML
LUTETIUM	镥	Lu	1000ppm	100ML
MAGNESIUM	鎂	Mg	1000ppm	100ML
MAGNESIUM	鎂	Mg	100ppm	100ML
MANGANESE	錳	Mn	1000ppm	100ML
MANGANESE	錳	Mn	100ppm	100ML
MOLYBDENUM	鉬	Mo	1000ppm	100ML
NEODYMIUM	釹	Nd	1000ppm	100ML
NICKEL	鎳	Ni	1000ppm	100ML
NICKEL	鎳	Ni	100ppm	100ML
NIOBIUM	鈮	Nb	1000ppm	100ML
PALLADIUM	鈀	Pd	1000ppm	100ML
PLATINUM	鉑	Pt	1000ppm	100ML
POTASSIUM	鉀	K	1000ppm	100ML
POTASSIUM	鉀	K	100ppm	100ML
PRASEODYMIUM	鐠	Pr	1000ppm	100ML
RHODIUM	銠	Rh	1000ppm	100ML
RUBIDIUM	銣	Rb	1000ppm	100ML
SAMARIUM	釤	Sm	1000ppm	100ML
SCANDIUM	鈧	Sc	100ppm	100ML
SELENIUM	硒	Se	1000ppm	100ML
SILICON	硅	Si	1000ppm	100ML
SILVER	銀	Ag	1000ppm	100ML
SODIUM	鈉	Na	1000ppm	100ML
SODIUM	鈉	Na	100ppm	100ML
STRONTIUM	鍶	Sr	1000ppm	100ML
TANTALUM	鉭	Ta	1000ppm	100ML
TELLURIUM	碲	Te	1000ppm	100ML